鉴于等离子体刻蚀过程是一个复杂的物理化学过程，附着力 gb/t与等离子体工艺参数密切相关，可以通过控制等离子体刻蚀机的参数来控制所形成薄膜的特性，使其具有不同的特性。在基板的外表面上产生附着力好的膜或获得良好的外表面强度。。各种型号进口和国产PL-BM60常压等离子体清洗机PL-BM60常压等离子体
